生物芯片點(diǎn)印加工儀—NLP2000

------（蛋白質(zhì)/DNA/抗原/抗體/脂質(zhì)體等）

       DPN（Dip Pen Nanolithography）是美國西北大學(xué)的Mirkin教授小組開發(fā)的基于原子力顯微鏡的納米刻蝕技術(shù)，國內(nèi)又稱作浸蘸筆納米加工刻蝕技術(shù)。通過對被轉(zhuǎn)移材料或物質(zhì)的控制，可以在襯底表面構(gòu)造出任意的納米結(jié)構(gòu)。隨著與相關(guān)技術(shù)的發(fā)展， DPN逐漸發(fā)展為一種操作簡單的納米刻蝕技術(shù)。經(jīng)過多年的潛心研發(fā)，美國acst（Advanced Creative Solutions Technology）公司充分挖掘了DPN技術(shù)在納米科技領(lǐng)域的巨大應(yīng)用前景，推出了基于DPN技術(shù)的多功能臺式微米加工點(diǎn)印儀，即生物芯片點(diǎn)印加工儀NLP-2000。

       生物芯片點(diǎn)印加工儀NLP 2000系統(tǒng)是一個用戶界面友好并且簡單方便的臺式納米加工平臺，可以以亞微米級別的分辨率將多種材料點(diǎn)印到基底模板上。整合MEMS和沉積技術(shù)到NLP 2000系統(tǒng)的點(diǎn)印和自動化軟件之中，用戶可以在幾十分鐘內(nèi)隨意創(chuàng)造出自定制化的圖案。NLP 2000可以很好地應(yīng)用于微納米芯片的大面積點(diǎn)印沉積。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水筆納米刻蝕技術(shù))，是夠在大的基底表面點(diǎn)印亞微米圖案的系統(tǒng)。由于點(diǎn)印的團(tuán)的大小可以從100 nm到10uM以上，NLP 2000給納米加工刻蝕技術(shù)帶來方便。NLP 2000可以提供1-10微米的點(diǎn)印，使它成為納米工程、生物材料加工點(diǎn)印、蛋白質(zhì)芯片點(diǎn)印、DNA/RNA芯片點(diǎn)印等領(lǐng)域的理想工具，例如：

多重蛋白質(zhì)點(diǎn)印

DNA/RNA芯片點(diǎn)印

生物芯片功能化

細(xì)胞微米/納米點(diǎn)印

納米點(diǎn)印加工工程

聚合物點(diǎn)印

生物芯片點(diǎn)印加工儀特點(diǎn)和優(yōu)勢

除了可以點(diǎn)印多種材料的納米/微米圖案之外，NLP 2000的優(yōu)點(diǎn)還有：

快速點(diǎn)印多種成分的團(tuán)，分辨率在1-10微米

自動化，同一平面的點(diǎn)印區(qū)域可達(dá)到40mm ×40mm

微米結(jié)構(gòu)的材料的功能化加工

通過高倍分辨率的光學(xué)顯微鏡 & 環(huán)境腔進(jìn)行過程檢測和控制

用戶友好的軟件

材料點(diǎn)印的標(biāo)準(zhǔn)流程

生物芯片點(diǎn)印加工儀標(biāo)準(zhǔn)配置

NLP2000 系統(tǒng)主機(jī)，光學(xué)部分，控制器

M-型多探針陣列。儲液池，基底板

快速啟動說明，用戶操作手冊，CD

一年保修，配件和人力

環(huán)境控制腔

整合的隔震臺

延遲的有限質(zhì)保，1年

大區(qū)域、全自動的點(diǎn)印

       除了一個大的40mm × 40mm XY平臺之外，NLP 2000系統(tǒng)包括基本培訓(xùn)之后用戶快速點(diǎn)印大的表面的所需要的所有軟硬件。NLP 2000 配置的3個壓電驅(qū)動的線性位移臺（XYZ）和2個角位臺 Goniometer Stage（Tx和Ty）確保了大區(qū)域快速點(diǎn)印的穩(wěn)定性。全自動的調(diào)平控制系統(tǒng)，標(biāo)準(zhǔn)的點(diǎn)印規(guī)則，以及軟件腳本處理使NLP 2000系統(tǒng)可以簡單、自動、可控的完成長時間點(diǎn)印。

微結(jié)構(gòu)的功能化

       通過使用NLP 2000系統(tǒng)的高分辨率平臺，亞微米光學(xué)分辨率和樣品點(diǎn)印界面，科學(xué)家可以簡單方便的功能化傳感器，陣列傳感器，微接觸印刷印章，微流體設(shè)備，或者其他預(yù)裝配的微結(jié)構(gòu)。

可控地點(diǎn)印環(huán)境

       為了全面的監(jiān)控和控制點(diǎn)印過程，NLP 2000 系統(tǒng)配置了高分辨率的光學(xué)顯微鏡和環(huán)境控制腔，以及隔震臺。整合的環(huán)境控制腔可以是用戶控制和記錄溫度，濕度和其他參數(shù)，用于實(shí)時或者后續(xù)的分析和校準(zhǔn)。此外，NLP 2000 還可以兼容市場上的主動和被動的各種防震臺。

DPN系統(tǒng)既可點(diǎn)印 左圖）分子材料，有可點(diǎn)印 右圖）液體材料

生物芯片點(diǎn)印加工儀點(diǎn)印的材料和基底：

       生物芯片點(diǎn)印加工儀NLP 2000 系統(tǒng)可以點(diǎn)印和成像多種分子材料和液體到不同的基底材料，黏度范圍可以從1-20000 cP。

點(diǎn)印的材料：

       蛋白質(zhì)、核酸、抗原、脂質(zhì)體、納米顆粒、聚乙二醇、UV-固化的多聚體、熱-固化的多聚體、甘油、硅烷

兼容的基底：

       硅、二氧化硅、硅烷化表面、氨基活化的玻片、金屬、PDMS、水凝膠、聚苯乙烯、催化劑、硫醇

Top-Down Lithography （自上而下刻蝕）

       Top-down DPN技術(shù)是快速進(jìn)行模型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的理想工具，適用于衍射光柵、等離子特征、任意固態(tài)圖案（包括光掩模）。先利用DPN系統(tǒng)將抗刻蝕的材料轉(zhuǎn)移到預(yù)定的基底表面，點(diǎn)印尺寸從50nm到2um，隨后將基底浸入到腐蝕液中去除點(diǎn)印圖案以外的所有區(qū)域的材料，終點(diǎn)印的材料就突出于表面而形成所需圖案。

Bottom-up Lithography （自下而上刻蝕）

       作為一種快速經(jīng)濟(jì)的微印刷技術(shù)，DPN技術(shù)可以將圖案材料點(diǎn)印到平面或者已有的微米/納米結(jié)構(gòu)中，從而廣泛應(yīng)用到bottom-up制備領(lǐng)域，并且可以用于生物芯片功能化、PDMS印章、微流管、膜和納米線。

生物芯片點(diǎn)印加工儀的優(yōu)勢

點(diǎn)印大小：50nm-10um

       MEMS專業(yè)制備的“筆”尖非常適合于沉積小分子或者液體材料，并且能夠控制點(diǎn)印的尺寸大小。通過控制“筆”尖在基底表面的停留時間和沉積的環(huán)境條件，NLP2000的使用者可以很快很容易地創(chuàng)造出從納米到微米尺寸大小的點(diǎn)。功能強(qiáng)大、使用方便的系統(tǒng)軟件驅(qū)動高度的掃描移動平臺來確保在X、Y、Z三維平面上點(diǎn)印的納米分辨率和穩(wěn)定性。

使用一種或多種材料靈活快速點(diǎn)印制備圖案

       使用NLP2000 ，研究人員可以很快的創(chuàng)造出*的圖案，并且從設(shè)計(jì)圖案到點(diǎn)印材料一共不超過一個小時。首先將小分子或者液體分子等“墨水”材料從墨水池流經(jīng)微流管運(yùn)輸再裝載到“筆”尖陣列上的儲水槽。“筆”尖陣列上的每一個“筆”尖都可以裝載一種特定的“墨水”材料。一旦“筆”尖裝載好“墨水”， NLP2000就可以同時將多種不同“墨水”材料點(diǎn)印在預(yù)定的的基底上，且點(diǎn)印的圖案特征是復(fù)雜多樣的，終創(chuàng)造出用戶自定義的結(jié)構(gòu)。

沉積過程不損傷生物材料

       NLP2000沉積蛋白質(zhì)、多肽和核酸的過程不涉及到壓力、剪切力、高真空或者紫外照射等破壞生物分子結(jié)構(gòu)和功能的條件。因此，DPN系統(tǒng)所制備圖案中生物分子可以保持良好的活性。“筆”尖能夠成功地點(diǎn)印粘度從1-20000cP的液體材料，點(diǎn)印的圖案大小和形狀可以各異，并且不會留下“咖啡漬”的污漬印記，而這個問題通常在其他的點(diǎn)印平臺都存在。

可以選擇”筆“尖的數(shù)目

       使用“筆”尖陣列點(diǎn)印材料的時候，使用單*個陣列和樣品可以同時使用多個“筆”尖一次性沉積出幾十到幾千個重復(fù)。精致復(fù)雜的DPN系統(tǒng)的掃描操作臺可以保證整個“筆”尖陣列的所有“筆”尖都一同接觸到基底，從而創(chuàng)造出高度一致的斑點(diǎn)形態(tài)。

定位的材料沉積

       高精度的x，y平臺配合的成像系統(tǒng)和先進(jìn)的軟件使得DPN平臺能夠沉積各種材料到預(yù)定的位置，同時保證納米和微米的精度。這種精度使得DPN系統(tǒng)成為一種理想的微結(jié)構(gòu)功能化加工和制造的工具，可以應(yīng)用到傳感器、微流體和細(xì)胞培養(yǎng)等領(lǐng)域。DPN制備過程同樣對構(gòu)造納米線或者石墨烯層微機(jī)構(gòu)上的電極很有應(yīng)用價(jià)值。

NLP2000-全面專業(yè)的納米制備平臺
       Advanced Creative Solutions Technology, LLC和北京佰司特貿(mào)易有限責(zé)任公司Best Science & Technology為客戶提供全面系統(tǒng)的服務(wù)，包括儀器、配件、耗材、軟件以及眾多的應(yīng)用案例。我們有納米制造領(lǐng)域的專家團(tuán)隊(duì)，承諾為每套NLP2000系統(tǒng)提供專業(yè)及時的的技術(shù)支持和客戶答疑，并在售后服務(wù)和合作開發(fā)等方面提供幫助。

專業(yè)支持
       我們有MEMS制造領(lǐng)域設(shè)備和經(jīng)驗(yàn)豐富的工程師團(tuán)隊(duì)，可以為NLP2000提供質(zhì)量的產(chǎn)品元件，NLP2000系統(tǒng)MEMS-制造的耗材包括：單一的“筆”尖、多“筆”尖陣列、預(yù)先標(biāo)定標(biāo)記的DPN基底、裝載一種或多種DPN“筆”尖的墨水池。

生物芯片點(diǎn)印加工儀的應(yīng)用領(lǐng)域

       NLP2000的可以在各種環(huán)境條件下將不同的材料以多種設(shè)計(jì)方案直接沉積到預(yù)定的位置，使得其可以應(yīng)用到納米加工制備、納米工程和納米生物等領(lǐng)域。

納米工程

超材料： 開口環(huán)形諧振器結(jié)構(gòu)

光柵：大尺度衍射光柵制作

碳納米管：金屬納米顆粒（單個或一列）沉積在催化的碳納米管的生長

石墨烯：在石墨烯層上印電極

微結(jié)構(gòu)功能化

       因?yàn)镹LP2000可以將不同的材料沉積到可控的位置并保證納米級的精度（小于10um大小），所以該平臺是微結(jié)構(gòu)功能化預(yù)加工的理想工具。應(yīng)用的微結(jié)構(gòu)包括生物傳感器/化學(xué)傳感器陣列元件、微柱、微電極和微流體導(dǎo)管內(nèi)部的特定位置。用戶自定義的結(jié)構(gòu)。

生物材料點(diǎn)印

       水膠形成亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)非常適合細(xì)胞微成像、組織工程學(xué)和體外細(xì)胞培養(yǎng)的研究。研究者可以利用NLP2000穩(wěn)定可控地在亞細(xì)胞水平點(diǎn)印水膠前體到位置，隨后聚合化這些前體形成三維交聯(lián)結(jié)構(gòu)的水膠聚合體，這種非常接近天然組織的環(huán)境適合用來研究組織水平細(xì)胞與外基質(zhì)以及細(xì)胞與水膠上結(jié)合蛋白的相互作用。NLP2000同樣很適合點(diǎn)印DNA、蛋白、脂質(zhì)和其他生物性材料分子以形成相應(yīng)圖案。

細(xì)胞生物學(xué)

       DPN平臺的無損傷生物分子沉積過程和快速點(diǎn)印成像的能力使得其成為操作和研究活細(xì)胞的理想工具。DPN系統(tǒng)可以方便地制備亞細(xì)胞水平的生物材料并且吸附單細(xì)胞到這些圖案化的基底圖案上，從而研究細(xì)胞行為學(xué)內(nèi)部機(jī)制，包括細(xì)胞極化、細(xì)胞形態(tài)學(xué)、遷移、粘附、分化以及干細(xì)胞系研究。使用DPN沉積水膠，研究者可以監(jiān)測吸附到外基質(zhì)材料的單一細(xì)胞水平的生物學(xué)效應(yīng)，包括單細(xì)胞之間的相互作用以及單細(xì)胞與外部微環(huán)境的相互作用。

蛋白組學(xué)分析

       DPN系統(tǒng)可以在不損傷生物分子的條件下同時沉積多種蛋白成分（包括抗體）。由于DPN可以點(diǎn)印大小形態(tài)高度一致的抗體分子，因此可以應(yīng)用到納米蛋白陣列，使得蛋白陣列的檢測靈敏度大大提到，能檢測到極低含量的蛋白標(biāo)記物，而且每個分析樣本只需要不到1ul用量，所以DPN是多蛋白表達(dá)譜分析和蛋白質(zhì)組功能學(xué)研究的理想平臺。

其他應(yīng)用案例

生物芯片點(diǎn)印加工儀文獻(xiàn)列表：

PDMS Deposition for OpticalDevices by Dip-Pen Nanolithography.Macromolecular.

Materials and Engineering, 2017

Large-Area Patterning of MetalNanostructures by Dip-Pen Nanodisplacement Lithography for Optical Applications.

Small, 2017

Chemistry Based Allergen Arrays Generated by Polymer Pen Lithography for Mast Cell Activation Studies.

Small, 2016

PDMS Deposition for Optical Devices by Dip‐Pen Nanolithography.

Macromolecular Materials and Engineering, 2016

Solar cell efficiency improvement using dip-pen nanolithography.

Journal of Photonics for Energy, 2017

Patterning of Quantum Dots by Dip-Pen and Polymer Pen Nanolithography. Nanofabrication, 2015

Surface Modification by Combination of Dip-Pen Nanolithography and Soft Lithography for Reduction of Bacterial Adhesion.

Journal of Nanotechnology, 2018

Patterned Deposition of Nanoparticles Using Dip Pen Nanolithography For Synthesis of Carbon Nanotubes.

Journal of Nanotechnology, 2015

Phospholipid arrays on porouspolymer coatings generated by micro-contact spotting.

Journal of Nanotechnology, 2017

Combinatorial Synthesis of Macromolecular Arrays by Microchannel Cantilever Spotting (µCS).

Advanced Materials, 2018

"Dip-Pen Nanolithography method for Fabrication of Biofunctionalized Magnetic Nanodiscs Applied in Medicine".

Semiconductors, 2018

Design complexity of DPN patterning with Cr3þ and Co2þ metallic ions on Au (111) thin film.

ournal of Alloys and Compounds, 2018

Oxygen-implanted induced formation of oxide layer enhances blood compatibility on titanium for biomedical applications.

Materials Science and Engineering, 2016

"Structural and Thermoelectric Properties of Optically Transparent Thin Films Based on Single-Walled Carbon Nanotubes".

Physics of the Solid State, 2018

"Si/Fe flux ratio influence on growth and physical properties of polycrystalline β-FeSi2 thin films on Si(100) surface".

Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 2016

Double epitaxy of tetragonaland hexagonal phases in the FeSe system.

Journalof Crystal Growth, 2019

"Highly porous monolith/TiO2supported Cu, Cu-Ni, Ru, and Pt catalysts in methanol steam reforming process for H2 generation".

AppliedCatalysis A, General, 2018